Elektronstråleförångningsmetoden är en slags vakuumförångningsbeläggning, som använder elektronstrålar för att direkt värma förångningsmaterialet under vakuumförhållanden, förånga förångningsmaterialet och transportera det till substratet och kondensera på substratet för att bilda en tunn film. I elektronstråleuppvärmningsanordningen placeras det uppvärmda ämnet i en vattenkyld degel, vilket kan undvika reaktionen mellan förångningsmaterialet och degelväggen och påverka filmens kvalitet. Flera deglar kan placeras i enheten för att uppnå samtidig eller separat avdunstning och avsättning av olika ämnen. Med elektronstråleförångning kan vilket material som helst förångas.
Elektronstråleförångning kan förånga material med hög smältpunkt. Jämfört med allmän resistansuppvärmningsförångning har den högre termisk effektivitet, högre strålströmtäthet och snabbare förångningshastighet. Film och film av olika optiska material såsom ledande glas.
Kännetecknande för elektronstråleavdunstning är att den inte eller sällan täcker de två sidorna av den tredimensionella målstrukturen och vanligtvis bara avsätts på målytan. Detta är skillnaden mellan elektronstråleförångning och sputtering.
Elektronstråleförångning används ofta inom halvledarforskning och industri. Den accelererade elektronenergin används för att träffa materialmålet, vilket får materialmålet att avdunsta och stiga. Så småningom avsatt på målet.
Posttid: 2022-02-02